EUV算是软X光，穿透物体时散射吸收都非常厉害，这使得光刻机需要非常非常强的光源，这个难度是巨大的。连空气都能吸收EUV，所以机器内部还得做成真空的。
传统光刻用的很多透镜因为会吸收X光要换成反射镜，据说193nm的最新光刻机里镜头加起来就有一吨重，而这些技术都用不上了。
由于光刻精度是几纳米，EUV对光的集中度要求极高，相当于拿个手电照到月球光斑不超过一枚硬币。反射要求的镜子要求长30cm起伏不到0.3nm，这相当于是北京到上海做根铁轨起伏不超过1毫米。
所以，EUV不仅是顶级科学的研究，也是顶级精密制造的学问。
全球在此项技术下拜服。
EUV的小镜子由德国蔡司生产，ASML还因此特地购买了Carl Zeiss SMT公司24.5%的股份。
好在ASML从来没有犹豫过，2006年它推出原型，2007年建造了10000平米的超级无尘室，等着接待2010年诞生的第一台研发用样机：NXE3100。
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