早期60年代的光刻，掩膜版是1：1尺寸紧贴在晶圆片上，而那时晶圆也只有1英寸大小。
60年代末，日本的尼康和佳能开始进入这个领域，毕竟当时的光刻不比照相机复杂。
1973年，拿到美国军方投资的Perkin Elmer公司推出了投影式光刻系统，搭配正性光刻胶非常好用而且良率颇高，因此迅速占领了市场。
1978年，GCA推出真正现代意义的自动化步进式光刻机，分辨率比投影式高5倍达到1微米。
才开始，好像这东西不难懂，可笑的是，在80年代，这东西没有什么生意。ASML在头一年只卖出一台stepper，第二年卖出四台，1980年还占据大半壁江山的美国三雄，到80年代末地位完全被日本双雄取代，这时ASML还只有大约10%的市场占有率。
90年代一直到现在的格局，一直是ASML和尼康的竞争，佳能在旁边看热闹。
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