22纳米“超分辨光刻装备”通过验收
2018年5月，国内最强的光刻机企业上海微电子宣布成功研发90纳米的高精度光刻机，半导体业内人士分析称，攻克了90纳米的技术之后，拿下65和45纳米就是顺理成章的事情。从时间节点上看，上海微电子90纳米光刻机下线之际，荷兰ASML同意出售7纳米光刻机给中芯国际------分析称：如果现在不出售，或许荷兰ASML将再也没有机会赢得1.2亿美元有巨额利润的订单了。
无独有偶，在12月1日前一天的11月30日，官方发布消息，中国科学院光电技术研究所研制的22纳米“超分辨光刻装备”通过验收。未来将可以结合双重曝光技术，用于制造10纳米级别的芯片。
仅从精度的数据上看，我们还是落后于荷兰ASML产品不少，我们离世界之巅尚有距离。芯片行业也的确同国际最高水准有差距，不过我们前进的速度让一部分人开始焦虑。
请记住上海微电子和中国科学院光电技术研究所这两家单位，他们代表了我们的未来。(再言)
（责编：金紫晗）
