日本垄断了全球87%的市场份额，而光刻机方面，尼康和佳能的DUV光刻机也是占据着一定的市场份额。
不过，由于美国的要求，日本和韩国都开始在半导体供应链方面对我国企业展开限制，而日本方面的限制主要是光刻胶，
都知道芯片制造环节中最为核心的是光刻机，但是如果没有光刻胶，即便是有再先进的光刻机也没有什么用，
而光刻胶就相当于照相机的胶圈，通过光刻机在晶圆上成像，然后再交给蚀刻机雕刻，最终变成电路芯片。
所以说，日本限制光刻胶的出口，对于我国的影响还是很大的，但是就在刚刚过去的5月19日，根据媒体方面传来的消息显示，
中国在光刻胶领域完成了新的突破，南大光电已经成功开发出可用于90nm到28nm芯片生产的DUV ArF光刻胶，该产品能够满足进口产品的替代需求。
此消息一出，估计日本彻底慌了，因为这也就意味着接下来哪怕是放开了限制，我国也不会再从日本购买光刻胶，而我国是全球最大的芯片消费国，失去我国的市场对于日本将是致命打击。
虽然目前突破的还只是90nm到28nm，但是对于我国来说却是整个芯片制造产业链的闭环突破，
因为目前我国正在攻克的就是28nm，国产光刻机距离28nm也只是临门一脚，所以28nm对于我国的现实意义更大。
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