幸运的是，身处绝路的台积电和ASML赌赢了！
2004年，台积电与ASML联合研制出全球第一台浸入式光刻机，尼康紧随其后在次年推出157nm的干式微影光刻机。
但问题是尼康的干式微影光刻机是全新产品，采购成本高，技术还不是特别的成熟，厂商买回去后，要经过多道工序的磨合才可以量产。而浸入式光刻机属于小改，设备仍是原来193nm波长的设备，技术成熟度高不说，采购成本和生产成本也很低，稍做调试就能大规模量产。最关键的是，波长做得比尼康更好更短。
直到今天，被视为高端制程的7nm芯片如苹果的A12与华为的麒麟980，仍然用的是193nm浸入式光刻机。
没有丝毫的意外，浸入式光刻机一经推出，英特尔、IBM、ADM等IC制造厂商们趋之若鹜，纷纷抛弃尼康，拥入ASML的怀抱。
此役，ASML和台积电一战封神：
一个成为全球最大的光刻机供应商，一个成为全球最大的半导体代工商！
但半导体厂商们相爱相杀的故事并没有就此结束...
2004年后，ASML份额全面超越尼康，问鼎世界之巅
日本光刻机产业真正覆灭的根源，要追溯到25年前那场多方密谋。
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