GCA岂能不败?
1985年,尼康本着宜将剩勇追穷寇的原则,在美国硅谷成立尼康精机,然后用了数年时间,将原属于GCA的大客户,如IBM、英特尔一一撬走。
面对日本没有任何征兆的产业进攻,美国完全没有办法,只能坐视从材料到设备再到制造的全产业链溃败,以至于产业史将这段黑暗的时代,称之为美国半导体的珍珠港时刻。
转折点发生在90年代中后期。
九十年代初,受基础理论和材料的限制,光刻机的光源波长卡死在193nm已经有二十多年时间了。如果不能向下取得突破,半导体制程就停滞,进而影响整个电子制造业的发展。所以,从提供设备的光刻机厂商,到负责生产的代工商绞尽了脑汁都想再把193nm的波磨细一点。
这场半导体行业的华山论剑,最终衍生出两条技术路线。一条是以尼康为首的稳健派,主张采用157nm的F2激光。
另一条是以台积电和ASML为首的激进派,主张采用时任台积电研发副总监林本坚提出的浸入式光刻法:波长还是沿用193nm的波长,但根据水会影响光折射的物理原理,在硅片和透镜之间加一层1mm厚的水,193nm的激光经过水的折射后,不但轻松越过了157nm,甚至一路降低到132nm。
力挺湿刻法算是台积电和ASML孤注一掷,波长卡死在193nm说实话对尼康和佳能的影响不大,因为它们是全球最大的光刻机供应商,即便波长没有取得技术进展,但只要半导体产业还在,躺着就能赚钱。
但台积电和ASML不行,前者是代工厂,地位不牢固,三星和英特尔的竞争力都不容小觑,随时有被用户换掉的风险,掌握更先进的制程工艺是,站稳脚跟的唯一办法。而后者更惨,除了科研人员要啥没啥。
两个同病相怜的臭皮匠觉得反正日子过得稀烂,不如梭哈一把,大不了输了下海干活,赢了会场嫩模,冲!