虽然我们制造出整台EUV光刻机还有一段距离，但是随着每一项技术的进步，都在奠定国产光刻机的未来，加速国产光刻机的发展。
而且推动了国产光刻机从成熟工艺到高端工艺的迈进。
一旦成功掌握，中国可能会生产出更便宜，成本更低的光刻机设备。
事实证明，外界的限制因素只会让国产科技发展得更快，没有什么力量是可以阻止国产科技崛起的。
对于国内光刻机市场来说，源卓微电子研发的DISS数字光刻机正式下线投产无疑是一个好消息，但是我们也要记住，半导体芯片领域所有的突破都不在一朝一夕，需要不断积累核心技术和经验，更需要有“十年磨一剑”的精神，只要我们不放弃，终会迎来爆发的一天。
（责编：杜鹏飞）
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