在一定程度上来看，源卓微电子自研的DISS数字光刻机正式投产的意义非常重大，不仅可以助力国产半导体产业，而且还补齐了我们在光刻机基础技术和供应体系等方面的短板。
可能会有人说，DISS数字光刻机并不是高端光刻机，也解决不了国内市场的芯片危机。
但是，这足以证明ASML的担忧正在应验，就算没有图纸，我们也可以生产出光刻机。
我们国产自主研发也突破了光刻机设备上非常多的核心零部件，包括双工件台、物镜系统、浸没系统和光源系统等等。
双工件台由华卓精科负责，上海微电子也能提供整机装备，光源系统有望通过中科院的高能同步辐射光源设备来解决。
在国产光刻机领域，先是中科院的高能同步辐射光源设备，然后是中科科美的两大镀膜装置，分别可以解决国产光刻机在光源以及光学镜头的需求。
由中科院高能物理研究所参与承建的高能同步辐射光源设备，已经实现安装。
这项高能同步辐射光源也被央视公开“点名”，用了较长篇幅进行报道。
中科科美分别研制了直线式劳埃透镜镀膜装置和纳米聚焦镜镀膜装置。
这两项装置主要面向光刻机的镜头配备，有了这些镀膜装置，可以很大程度提高国产光刻机在光学镜头上的水准。
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