换谁，也难接受这个现实。
但更让梁孟松无法接受的，还是蒋尚义的到来也意味着中芯研发方向的转型，即第二条路。
比起梁孟松追求的7/5/3纳米的最先进制程工艺，蒋尚义更热衷宣传先进封装技术。
他认为应该通过集成系统提升芯片之间的紧密行，使其性能优于单一芯片，降本增效。如果追求更高精度的半导体创新，需要投入的研发成本越来越高，回报周期也在拉长。
蒋尚义曾多次公开发言，向大陆喊话先进封装对于应对中美关系变化、克服芯片技术的瓶颈的重要意义。
毕竟，摩尔定律的3纳米物理极限在前，谁也不敢说能不能像过去一样，继续突破物理极限。这一点，连台积电的3纳米制程研究也被很多很多专业人士人认为不是唯一一条正确的道路。
目前包括美国格罗方德、台湾联电此前已经战略放弃7nm、12nm以下的制程研发。
更何况，由于美国已经阻止中国继续获得光刻机，而国产光刻机的研发在专利壁垒面前，更是举步维艰。如果中芯国际没有更好的EUV光刻机，想要攻克7/5/3纳米无疑难上加难。
但说了那么多，为什么台积电自己却没有放弃呢？
难道未来真的只能走技术保守主义路线了吗？
所以梁孟松没有放弃！
在光刻机问题上，梁孟松显得斗志昂扬，他表示，自己在中芯研发的N+1制程工艺可绕过EUV光刻机，功耗和稳定性未来可比肩台积电的7纳米制程工艺。
面对摩尔定律的极限，梁孟松的勇气也不是吹出来的，因为连他导师胡正明教授也正研究“负电容晶体管”等新技术，为继续突破摩尔定律极限带来未来可能。
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