事实？谣传？中科院光刻机帮华为一战定乾坤？
中科院在科技领域的新突破到底是喜忧参半，10年的科技差距，无论怎么样都有必要追赶。
虽说中科院在5nm光刻机上有了重大突破，但并不是说就能够完完全全将芯片制造出来。
另外中科院官网刊登了一篇报道，关于苏州纳米所等在超高精度激光光刻技术研究中获得巨大进展，团队开发了一种新型三层堆叠薄膜结构，可以实现5纳米的特征线宽。
中科院在科技领域的新突破到底是喜忧参半，10年的科技差距，无论怎么样都有必要追赶。
虽说中科院在5nm光刻机上有了重大突破，但并不是说就能够完完全全将芯片制造出来。
但我们需要认清现实的就是，现在我国自主制造的光刻机还在90nm的节点，只能制造90nm的芯片，但ASML已经可以生产5nm芯片。
在这之间差了好几个阶段，有人说差不多是10年的技术。
但很多人了解的不是特别清楚，所以就觉得现在一直被针对的华为可以有救了。
实际不然，如果华为真的使用国产90nm的芯片产品，那华为真的就沦为低端机了。在这个体验感大于情怀感的潮流中，将使华为占不到任何优势。
但就这一技术的突破还是可喜可贺的，毕竟光刻技术的进步也代表着国产科技的进一步强大。
对于芯片领域很多人都是熟悉又陌生的，熟悉是它的名字，陌生的是它的来源发展和作用。
芯片即集成电路。从1930年代开始，元素周期表中的半导体被研究者如贝尔实验室的William Shockley认为是固态真空管的最可能的原料。
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