1977年，中国第一台光刻机JGK-3型半自动接触式光刻机，在上海光学机械厂诞生，拉开国产半导体设备的浩荡序幕。
1982年，科学院109厂的KHA-75-1光刻机面世，较日本最先进的佳能光刻机相比，技术差距最多只有4年；三年后，机电部45所研制出了分步光刻机样机，较美国GCA公司生产的4800DSW光刻机相比，技术差距最多只有七年。
纵观国产半导体及设备早期发展史，有人曾这么评价道：
六七十年代，中国大陆的电子技术、半导体技术仅次于美国，领先于欧洲和日本以及韩国。而且中国那时尚未加入世贸体系，所有环节完全独立自主，即使是傲视全球的英特尔也做不到。
毫不讳言，那时候的中国科技绝对算得上是一个星辰锦绣的时代，在诸多先进技术研究均不落后于美日欧的情况下，中国相当于以一己之力，单挑整个发达国家联盟。
所以每每回忆起这段璀璨的历史时，心中顿时有一种豪迈之情油然而生！
那拥有如此强大科技底蕴的我们为何在改革开放后就不行了呢？
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