然而，一路高歌猛击的中国科学仪器行业，却在改革开放的市场化浪潮中迅速走向土崩瓦解，成为了不少仪器人心中永恒的痛。
与科学仪器经历类似的还有国产半导体和国产光刻机！
1952年，尚处于朝鲜战争的中国成立电子计算机科研项目小组，著名数学家华罗庚担任组长。在探索过程中，科学家们很快认识到半导体及其相关设备对电子计算机的重要性，遂旋即展开相关配套研制工作。
于是1955年，中国便踏足了锗工艺半导体设备的研制，这时世界上从事半导体设备研究工作的国家只有美国，而苏联还在死磕大当量的核武器，欧洲正在致力于战后重建，而日本则忙着消化朝鲜战争的红利。
1956年，中国第一只晶体三极管诞生，由此进入半导体新纪元，这之后国产半导体技术的发展可以用日新月异来形容：
1961年我国第一个集成电路研制课题组成立；1962年我国第一代硅平面晶体管问世；同年我国研究制成硅外延工艺，并开始研究采用照相制版，光刻工艺；1968年我国组建国营东光电工厂，上海无线电十九厂，至1970年建成投产，形成中国IC产业中的“两霸”；同年，上海无线电十四厂首家制成PMOS(P型金属-氧化物半导体)电路(MOSIC)，拉开了我国发展MOS电路的序幕，并到七十年代初，永川半导体研究所(现电子第24所)、上无十四厂和北京878厂相继研制成功NMOS电路。
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