而当这个国家开始出现的时候，曾经本该不值一提的“台积电”逆反，却不可避免的成为了体系崩溃的前兆
——在“专利胁迫”无法可依之后，美国只得使出了更为赤裸有效却粗鄙无比的“政治施压”！
可惜，在本国科技输出的日渐滞缓下，已经逐步丧失了合法科技壁垒钳制要挟的美国政府，此时所要面对的已经不仅仅只是渴求其他渠道高科技的体系内国家，他们所要面对的，甚至包括了本国势力庞大的跨国金融集团....
能够“挽回颓势”吗？
笔者只知道：再强大的力士，也无法揪着自己的头发脱离地面！
文章最后，笔者有话说
2019年4月，就在美国全力施压荷兰禁止出口EUV光刻机给中国的同一时间，中国武汉光电国家研究中心甘棕松团队，采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制。
在采用远场光学的办法下，甘棕松团队成功的在实验室环境下光刻出了最小9纳米线宽的线段，从技术层面上实现了材料，软件和零部件等三个方面的国产化，打破了三维微纳光制造的国外技术垄断。
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