全球第一台！分辨力最高！七年磨一剑，中国自主研发的紫外超分辨光刻机，终于来了！
前不久，北京传来大消息：中国科学院成功研制出了世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻机，其光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。
你没有看错，不是引进，不是模仿，而是自主研发、世界首台。
消息一出，科技圈炸了！要知道，该光刻机使用365nm的光源，单次曝光做到22纳米！
22纳米是什么概念呢？中科院的文章中提到了一个对比：头发的直径约为80微米，22纳米是头发直径的1/3600。也就是说，这个光刻机能够在头发表面加工各种复杂的结构。
而使用365nm的光源，则相当于我们用很粗的刀，刻出一条很细的线，打破了传统的衍射极限！
那么，这台光刻机与大名鼎鼎ASML荷兰光刻机对比怎么样呢？
