我们制造光刻机，一种是像ASML那样使用传统技术，再沿着它的老路走一遍；二是另辟蹊径，实现弯道超车。
光刻机技术，它类似于相片冲印，是将一个巨大的电路设计图缩印到介质上，然后芯片就这样出来了，这个过程中，光刻精度越高，性能就越好，体积也将更小。
ASML使用的传统技术中，有一个天然缺陷，那就是精度受激光“衍射极限”的限制，最终的分辨率取决于波长、数值孔径等因素。
为了提高精度，ASML采用的办法就是使用更短的波长（近紫外-深紫外-极紫外）、增大数值孔径（更复杂的物镜、液体浸没），但这样的办法，越前进，变得越困难，成本也急剧升高。
我们这台光刻机则采用了完全不同的方法，那就是使用“表面等离子体”光刻技术。
其原理是：在一定条件下，物体表面会产生一种特殊电磁波，这种电磁波便是“表面等离子体”。这种特殊电波虽然由其它电波所激发，但其波长会被大大压缩，而且压缩比例取决于材料的电磁性质等参数。
