【日本1974年在政府大力支持下，日本通产省联合了日立、东芝和Nikon等几家大企业集团，其中组织了有关研究所和大学，走“产学研”联合自主研制开发专用设备的道路，成立了有名的日本超大规模集成电路组合技术研究所(简称“共同所”联合体)集中技术优势，主攻日本第一代五种关键专用设备，即分步重复投影光刻机(SR-1，SR-2型)、电子曝光机(EB-1型)、离子刻蚀机、掩模缺陷自动检测设备、1：1反射投影式光刻机等。经过4-5年努力先后研制成功样机，为日本后来自主发展集成电路专用设备奠定了基础。80年代以来，日本加快了投影光刻机等关键光学专用设备研制与开发步伐，以世界著名的光学仪器公司Nikon和Cannon公司为核心，每隔两三年推出新一代的光学专用设备。由于特别注重产品质量并以微电子工艺单位(企业)相依托，实用化的周期大为缩短并在价格竞争上占有优势，很快拓展了市场，在激烈的竞争中将美国光刻设备的霸主GCA公司等击败，雄居该领域的领先地位。】(《电子信息产业的作用与发展》，马宾著， 电子工业出版社1995年7月第一版，62页)
日本集成电路产业的发展历史，给了我们很大的启示。即只要国家给予足够的重视和扶植，制定正确的产业发展政策和保护政策，整合本国产业资源和人才，投入充足的发展资金，那么在集成电路的世界市场竞争中，相对落后的国家也能够对美国这样的行业领跑者实现追赶和超越。
上世纪八九十年代，日本的集成电路产业非常强大。然而由于1985年广场协议的签订，以及日本对美国自由市场经济的采纳，给日本高新技术产业的发展带来了极大地不利影响。进入新世纪后，日本Nikon的高端光刻机逐渐被荷兰的阿斯麦公司(ASML)击败。
阿斯麦(ASML)是专注于光刻机研发和制造的设备商，总部位于荷兰费尔多芬市。1984 年，阿斯麦由飞利浦与荷兰国际先进半导体材料公司合资成立。当时硅谷集团、Nikon和 Cannon等十几家光刻机公司，实力均在阿斯麦之上。阿斯麦在成立当年，做出第一台油压驱动光刻机PAS2000，但PAS2000的技术已严重过时。
之后依托飞利浦原有的技术积累以及其他合作伙伴的支持，阿斯麦于1986年制造出PAS2500/10机器。1990年，阿斯麦光刻机销量进入世界前三甲。然而，在阿斯麦公司发展进入快车道的同时，也面临重重危机。1990 年，合资一方国际先进半导体材料公司退出阿斯麦。1991年，阿斯麦亏损970万荷兰盾。1992 年，世界半导体产业滑坡，阿斯麦资金链断裂，几近关门。
